Peròxid d’hidrogen bo per a talls

Peròxid d’hidrogen bo per a talls

Nom químic: peròxid d’hidrogen
CAS: 7722-84-1
Einecs: 231-765-0
Fórmula química: H2O2
Aspecte: líquid transparent incolor
Enviar la consulta

 

 

 

Peròxid d’hidrogen

 

 

El principi del peròxid d’hidrogen és bo per a talls:
 
Reacció d’oxidació:
Quan es descomponen H ₂ O ₂, es generen radicals hidroxil (· OH) i oxigen (O ₂). Aquestes espècies reactives d’oxigen poden oxidar i descompondre compostos orgànics o determinats materials inorgànics (com ara metalls i materials semiconductors).
-Per exemple, en el gravat de les hòsties de silici, h ₂ o ₂ funciona sinèrgicament amb l’àcid hidrofluòric (HF) per generar diòxid de silici (SiO ₂) a la superfície de l’òxid de silici, que després es dissol per HF per aconseguir un tall precís.
Descomposició catalítica:
Els ions metàl·lics (com Fe ² ⁺, Cu ² ⁺) o enzims (com la catalasa) poden accelerar la descomposició de H ₂ O ₂, alliberant una gran quantitat d’oxigen i calor. Aquesta intensa reacció pot danyar localment l'estructura del material i és adequada per a la microfabricació o el tractament de teixits biològics.
Gravat selectiu:
-En processos de semiconductors, H ₂ O ₂ sovint es barreja amb altres àcids com l’àcid sulfúric i l’àcid hidrofluòric. En ajustar la concentració i la temperatura, les capes de material específiques (com les fotoresist i les pel·lícules metàl·liques) es graven selectivament per aconseguir un tall amb motius d’alta precisió.

 

Article

Especificació

H2O2 més gran o igual a

50

No volàtil menor o igual a

0.08

Àcid lliure menys o igual a

0.04

Constant més gran o igual a

97

C menys o igual a

0.035

No3 menys o igual a

0.025

 

Àrees d’aplicació de peròxid d’hidrogen Bo per a talls:


Microelectrònica i fabricació de semiconductors:
Eliminació de fotoresist:
H ₂ O ₂ es barreja amb àcid sulfúric per formar una "solució Piranha" (H ₂ So ₄: H ₂ O ₂), que pela de manera eficient i neteja la superfície de les hòsties.
Graix de metalls:
En el processament de les plaques de circuit impreses (PCBs), H ₂ O ₂ i àcid clorhídric (HCl) es barregen a les capes de coure de gravat, formant patrons de circuit.
Processament d’hòsties de silici:
S'utilitza per netejar i gravar la superfície de les hòsties de silici, eliminar contaminants o capes d'òxid.

 

 

hydrogen peroxide for face pigmentation

 

hydrogen peroxide for skin pigmentation

 

liquid

5

 

 

product-900-1124

 

 

product-900-879

 

 

product-900-938

product-900-600

Gràcies per la vostra visita i donem la benvinguda a la vostra amable consulta.

 

 

Etiquetes populars: Peroxid d’hidrogen Bo per a talls, peròxid d’hidrogen Xina Bona per als fabricants de talls, proveïdors, fàbrica

Enviar la consulta