Peròxid d’hidrogen bo per a talls
CAS: 7722-84-1
Einecs: 231-765-0
Fórmula química: H2O2
Aspecte: líquid transparent incolor
Peròxid d’hidrogen
- El principi del peròxid d’hidrogen és bo per a talls:
- Reacció d’oxidació:
Quan es descomponen H ₂ O ₂, es generen radicals hidroxil (· OH) i oxigen (O ₂). Aquestes espècies reactives d’oxigen poden oxidar i descompondre compostos orgànics o determinats materials inorgànics (com ara metalls i materials semiconductors).
-Per exemple, en el gravat de les hòsties de silici, h ₂ o ₂ funciona sinèrgicament amb l’àcid hidrofluòric (HF) per generar diòxid de silici (SiO ₂) a la superfície de l’òxid de silici, que després es dissol per HF per aconseguir un tall precís.
Descomposició catalítica:
Els ions metàl·lics (com Fe ² ⁺, Cu ² ⁺) o enzims (com la catalasa) poden accelerar la descomposició de H ₂ O ₂, alliberant una gran quantitat d’oxigen i calor. Aquesta intensa reacció pot danyar localment l'estructura del material i és adequada per a la microfabricació o el tractament de teixits biològics.
Gravat selectiu:
-En processos de semiconductors, H ₂ O ₂ sovint es barreja amb altres àcids com l’àcid sulfúric i l’àcid hidrofluòric. En ajustar la concentració i la temperatura, les capes de material específiques (com les fotoresist i les pel·lícules metàl·liques) es graven selectivament per aconseguir un tall amb motius d’alta precisió.
|
Article |
Especificació |
|
H2O2 més gran o igual a |
50 |
|
No volàtil menor o igual a |
0.08 |
|
Àcid lliure menys o igual a |
0.04 |
|
Constant més gran o igual a |
97 |
|
C menys o igual a |
0.035 |
|
No3 menys o igual a |
0.025 |
Àrees d’aplicació de peròxid d’hidrogen Bo per a talls:
Microelectrònica i fabricació de semiconductors:
Eliminació de fotoresist:
H ₂ O ₂ es barreja amb àcid sulfúric per formar una "solució Piranha" (H ₂ So ₄: H ₂ O ₂), que pela de manera eficient i neteja la superfície de les hòsties.
Graix de metalls:
En el processament de les plaques de circuit impreses (PCBs), H ₂ O ₂ i àcid clorhídric (HCl) es barregen a les capes de coure de gravat, formant patrons de circuit.
Processament d’hòsties de silici:
S'utilitza per netejar i gravar la superfície de les hòsties de silici, eliminar contaminants o capes d'òxid.








Gràcies per la vostra visita i donem la benvinguda a la vostra amable consulta.
Etiquetes populars: Peroxid d’hidrogen Bo per a talls, peròxid d’hidrogen Xina Bona per als fabricants de talls, proveïdors, fàbrica
You Might Also Like
Subministreu hidrosulfur de sodi d'alta qualitat CAS...
Subministreu pentahidrat de sulfat de coure d'alta q...
Subministreu hidròxid d'alumini d'alta qualitat núm....
Subministrament d'òxid de molibdè (VI) CAS 1313-27-5...
Subministreu sulfat polifèric de bona qualitat CAS 1...
Peròxid d’hidrogen per a la pigmentació facial
Enviar la consulta



